P-2G金相試樣拋光機(jī)概述：
P-2G金相試樣拋光機(jī)是在P-2T金相試樣拋光機(jī)的基礎(chǔ)上作進(jìn)一步的設(shè)計改進(jìn)，由原立式結(jié)構(gòu)設(shè)計成柜式結(jié)構(gòu)，本機(jī)外觀設(shè)計美觀大方、擁有超大儲物柜、冷卻裝置可帶走試樣磨光時的熱量，以免破壞試樣組織。配不同轉(zhuǎn)速的電機(jī)即可適應(yīng)不同材料在拋光時的不同轉(zhuǎn)速要求。本機(jī)是大專院校、工礦企業(yè)以及科研單位實(shí)驗(yàn)室理想的制樣設(shè)備之一。

P-2G金相試樣拋光機(jī)技術(shù)指標(biāo)：
1.拋盤直徑：φ200mm
2.轉(zhuǎn)　　速：1400r/min或900r/min （定制）
3.電    壓：380V、50Hz  或 220V、50Hz（定制）
4.外形尺寸：550x820x970mm

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延伸閱讀：

金相試樣的拋光
拋光的目的是在于去除金相磨面由細(xì)磨所留下的細(xì)微磨痕及表面變形層，使磨面成為無劃痕的光滑鏡面。方法有機(jī)械拋光和電解拋光2種。
1、機(jī)械拋光
機(jī)械拋光是靠拋光微粉的磨削和滾壓作用，把金相試樣拋成光滑的鏡面。拋光時拋光微粉嵌入拋光織物的間隙內(nèi)。相當(dāng)于磨光砂紙的切削作用。
機(jī)械拋光所使用的設(shè)備主要是拋光機(jī)，拋光機(jī)由電動機(jī)帶動拋光盤構(gòu)成，結(jié)構(gòu)比較簡單。良好的拋光機(jī)不允許有能感覺到的徑向和軸向跳動，使用時拋光盤應(yīng)平穩(wěn)，噪聲小。拋光時常用常用的磨料有氧化鉻、氧化鋁、氧化鐵和氧化鎂，將拋光磨料制成水懸浮液后使用?，F(xiàn)在比較常用的拋光磨料是金剛石研磨膏，它的特點(diǎn)是拋光效率，拋光后表面質(zhì)量好。
拋光織物對金相試樣的拋光具有重要的作用，依靠織物與磨面間的摩擦使磨面光亮。在拋光過程中，織物的纖維間隙能儲存和支承拋光粉，從而產(chǎn)生磨削的作用。一般常用的粗糙拋光織物用帆布，細(xì)拋和精拋織物用海軍呢、絲絨和絲綢等。拋光操作時，對試樣所施加的壓力要均衡，且應(yīng)先重后輕。在拋光初期，試樣上的磨痕方向應(yīng)與拋光盤轉(zhuǎn)動的方向垂直，以利較快的拋除磨痕。在拋光后期，需將試樣緩緩轉(zhuǎn)動，這樣有利于獲得光亮平整的磨面，同時能防止夾雜物及硬性的相產(chǎn)生曳尾現(xiàn)象。
2、電解拋光
電解拋光是靠電化學(xué)的作用使試樣達(dá)到拋光的目的，用不銹鋼作為陰極，被拋光的試樣作為陽極，容器中盛放電解液，當(dāng)接通電流后，試樣的金屬離子在溶液中發(fā)生溶解，在一定電解的條件下，試樣表面微凸部分的溶解比凹陷處來得快，從而逐漸使試樣表面有粗糙變平坦光亮。
電解拋光采用電化學(xué)溶解作用，使試樣達(dá)到拋光的目的。電解拋光速度快，一般試樣經(jīng)過0號或00號砂紙磨光后即可進(jìn)行電解拋光。經(jīng)電解拋光的金相試樣能顯示材料的真實(shí)組織，尤其是硬度較低的金屬或單相合金，對于極易容易加工變形的合金，像奧氏體不銹鋼、錳鋼等采用電解拋光更為合適。但不適用于偏析嚴(yán)重的金屬材料、鑄鐵以及夾雜物檢驗(yàn)的試樣。
電解拋光使用直流電源一般采用低壓蓄電池充電器即已足夠，電路中應(yīng)裝有電流表和電壓表。拋光時應(yīng)先接通電源，然后夾住試樣，將試樣放入電解液中，此時應(yīng)立即正確地調(diào)整至額定拋光電流，并給予電解液以充分的攪拌與冷卻或加熱。拋光完畢后，必須先將試樣自電解液內(nèi)取出，然后切斷電源，并將試樣迅速移入水中沖洗、吹干。